陽極氧化的第一階段

無孔層的形成階段，ab段，通電開始斷時間（幾秒到幾十秒）內(nèi)電壓劇增，達到臨界電壓，（電壓的x大值）表明這時陽極表面形成了連續(xù)、無孔的薄膜層。無孔層電阻較大，阻礙了膜的繼續(xù)增厚，無孔層的厚度與形成電壓成正比，氧化膜在電解液中溶解速度成反比。厚度約0.01～0.1微米 。

陽極氧化的第二階段

多孔層形成階段，bc段，在膜x薄的地方將首先被溶解出空穴來，電解液就可以通過這些空穴到達鋁的新鮮表面，電化學(xué)反應(yīng)得以繼續(xù)進行，電阻減小，電壓隨之下降（下降幅度為x高值的10～15%），膜上出現(xiàn)多孔層。

陽極氧化的第三階段

多孔層增厚，cd段，這時電壓平穩(wěn)而緩慢的上升，這時無孔層不斷被溶解成多孔層，新的無孔層友在生長，這樣多孔層就在不斷增厚，當(dāng)生成速度與溶解速度達到動態(tài)平衡時，膜的厚度就不再增加，這時反應(yīng)就應(yīng)該停止了。