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鋁專題|鋁合金氧化膜生成過程

返回列表 來源: 發(fā)布日期: 2018-11-03

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陽極氧化的第一階段

無孔層的形成階段,ab段,通電開始斷時間(幾秒到幾十秒)內(nèi)電壓劇增,達到臨界電壓,(電壓的x大值)表明這時陽極表面形成了連續(xù)、無孔的薄膜層。無孔層電阻較大,阻礙了膜的繼續(xù)增厚,無孔層的厚度與形成電壓成正比,氧化膜在電解液中溶解速度成反比。厚度約0.01~0.1微米 。


陽極氧化的第二階段

多孔層形成階段,bc段,在膜x薄的地方將首先被溶解出空穴來,電解液就可以通過這些空穴到達鋁的新鮮表面,電化學(xué)反應(yīng)得以繼續(xù)進行,電阻減小,電壓隨之下降(下降幅度為x高值的10~15%),膜上出現(xiàn)多孔層。


陽極氧化的第三階段

多孔層增厚,cd段,這時電壓平穩(wěn)而緩慢的上升,這時無孔層不斷被溶解成多孔層,新的無孔層友在生長,這樣多孔層就在不斷增厚,當(dāng)生成速度與溶解速度達到動態(tài)平衡時,膜的厚度就不再增加,這時反應(yīng)就應(yīng)該停止了。

 


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